光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等 。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫MaskAlignmentSystem 。目前，世界上能制造光刻機(jī)的國(guó)家有荷蘭、日本、德國(guó)和中國(guó) 。
目前能制造高端光刻機(jī)的廠家有：荷蘭ASML，日本Nikon，日本Canon，以及上海微電子裝備和德國(guó)的歐泰克 。

【世界上能制造光刻機(jī)的國(guó)家有哪些】

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